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技術(shù)文章

TECHNICAL ARTICLES

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  • 20107-29
    真空爐的特點(diǎn)

    (1)水冷裝置,真空熱處理爐的爐殼、爐蓋、電熱元件導(dǎo)別處置(水冷電極)、中間真空隔熱門等部件,均在真空、受熱狀態(tài)下工作:在這種極為不利的條件下工作,必須保證各部件的結(jié)構(gòu)不變形、不損壞,真空密封圈不過熱、不燒毀。因此,各部件應(yīng)該根據(jù)不同的情況設(shè)置水冷裝置,以保證真空熱處理爐能夠正常運(yùn)行并有足夠的使用壽命。(2)嚴(yán)格的真空密封:金屬零件進(jìn)行真空熱處理均在密閉的真空爐內(nèi)進(jìn)行,因此,獲得和維持爐子原定的漏氣率,保證真空爐的工作真空度,對(duì)確保零件真空熱處理的質(zhì)量有著非常重要的意義。所以...

  • 20107-28
    真空爐的常識(shí)

    1.真空爐處理鈦合金時(shí),不宜用氮?dú)庾鳛槔鋮s氣體,因?yàn)殁伜偷诟邷叵路磻?yīng),形成金黃色的氮化鈦。2.真空爐活動(dòng)連接部分全部采用O型橡膠圈密封連接,此部分均通水冷卻。3.工件在真空狀態(tài)下淬火,應(yīng)使用真空淬火油,此油具有較低的飽和蒸氣壓。4.真空爐的保養(yǎng)應(yīng)在真空或充純氮狀態(tài)下,避免平時(shí)不用時(shí)吸氣,吸潮。5.國(guó)內(nèi)真空爐的壓升率應(yīng)不大于1.33Pa/h,國(guó)外某些企業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)為0.67Pa/h6.真空加熱以輻射為主,工件在爐內(nèi)應(yīng)該保持間距。7.升溫過程中,工件及爐內(nèi)材料會(huì)放氣,使真空度下降。...

  • 20107-27
    真空爐的種類

    一.真空感應(yīng)爐半連續(xù)式真空感應(yīng)爐:坩堝可連續(xù)澆幾個(gè)模子,不必等爐冷后,再將模子取出相對(duì)周期式真空爐而言,不必對(duì)加熱室反復(fù)抽真空,可使加熱室始終處于真空中,另外不必等爐冷后,再將模子取出,提率。二.真空電阻爐1.外熱式真空爐:(在普通井式爐爐膛中放一個(gè)真空爐罐)A.主要進(jìn)行退火操作,可通過拆去真空管道吊出爐罐進(jìn)行冷卻,可準(zhǔn)備幾個(gè)真空爐罐,進(jìn)行連續(xù)操作。2.內(nèi)熱式真空爐:(爐罐真空,爐罐和爐體之間也是真空)A.特點(diǎn):可使?fàn)t罐內(nèi)外壓力一致,減少爐罐壁厚B.內(nèi)熱式:電阻絲懸掛在圓柱形...

  • 20105-25
    氣氛對(duì)硅鉬棒的影響

    氣氛對(duì)硅鉬棒的影響1、二硅化鉬電熱元件(硅鉬棒)是一種以二硅化鉬為基礎(chǔ)制成的電阻發(fā)熱元件,其在氧化氣氛下高溫使用,表面?;?,生成一層光亮致密的石英(SiO2)玻璃膜,能保護(hù)硅鉬棒不再氧化,因此硅鉬棒元件具有*的高溫抗氧化性。在氧化氣氛下,元件zui高使用溫度為1800℃,根據(jù)用戶需求可制成棒狀,U型、W型、U型直角等形狀。硅鉬棒通??墒褂玫臓t體溫度為1300℃-1800℃,廣泛應(yīng)用于冶金、玻璃、陶瓷、磁性材料、耐火材料、晶體、電子元器件、窯爐制造等領(lǐng)域、工業(yè)高溫爐的加熱元件,...

  • 20105-25
    氣氛對(duì)硅碳棒的影響

    氣氛對(duì)硅碳棒的影響硅碳棒為非金屬電熱元件,是用高純度綠色六方碳化硅為主要原料,按一定料比加工制坯,經(jīng)2200℃高溫硅化再結(jié)晶燒結(jié)而制成的棒狀非金屬高溫電熱元件.正常使用溫度可達(dá)1450℃,合理使用條件下,連續(xù)使用超過2000小時(shí),在空氣中使用,不需要任何保護(hù)氣氛.硅碳棒用途:由于硅碳棒使用溫度高,具有耐高溫、抗氧化,耐腐蝕、升溫快、壽命長(zhǎng)、高溫變形小、安裝維修方便等特點(diǎn)。有良好的化學(xué)穩(wěn)定性。若與自動(dòng)化供電系統(tǒng)配套,既可得到的恒定溫度,又可根據(jù)生產(chǎn)工藝的實(shí)際需要按曲線自動(dòng)調(diào)溫。...

  • 200910-29
    CVD(Chemical Vapor Deposition, 化學(xué)氣相淀積)

    CVD試驗(yàn)CVD(ChemicalVaporDeposition,化學(xué)氣相淀積),指把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)劑的蒸氣及反應(yīng)所需其它氣體引入反應(yīng)室,在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的過程。在超大規(guī)模集成電路中很多薄膜都是采用CVD方法制備。經(jīng)過CVD處理后,表面處理膜密著性約提高30%,防止高強(qiáng)力鋼的彎曲,拉伸等成形時(shí)產(chǎn)生的刮痕。CVD特點(diǎn):淀積溫度低,薄膜成份易控,膜厚與淀積時(shí)間成正比,均勻性,重復(fù)性好,臺(tái)階覆蓋性優(yōu)良。

  • 20097-4
    真空熱處理爐的節(jié)能技術(shù)

    真空熱處理爐的節(jié)能技術(shù)空熱處理爐是一種先進(jìn)的熱處理設(shè)備可以進(jìn)行金屬材料和工件的真空加熱、淬火、回火、退火、滲碳、滲氮、加壓氣淬等各種熱處理,也可進(jìn)行粉未冶金燒結(jié)、航空航天工件釬焊等,真空熱處理過程能使被處理材料和工件性能顯著提高,材料得到充分利用。**因而,廣義上真空爐是一種明顯節(jié)省單位能的先進(jìn)的熱處理設(shè)備。選用適當(dāng)?shù)臓t爐室內(nèi)加熱元件和隔熱材料,對(duì)于減少爐子本身能耗、提高加熱效率是有重要意義的。加熱元件一般情況可采用鎳鉻合金或鐵鉻合金,工兒溫度要求1000℃以上時(shí),應(yīng)采用鉬、...

  • 20097-4
    感應(yīng)加熱技術(shù)的多種應(yīng)用

    感應(yīng)加熱技術(shù)的多種應(yīng)用感應(yīng)加熱是利用電磁感應(yīng)的方法使被加熱的材料(即工件)的內(nèi)部產(chǎn)生電流,依靠這些渦流的能量達(dá)到加熱目的。感應(yīng)加熱系統(tǒng)的基本組成包括感應(yīng)線圈、交流電源和工件。根據(jù)加熱對(duì)象不同,可以把線圈制作成不同的外形。線圈和電源相連,電源為線圈提供交變電流,流過線圈的交變電流產(chǎn)生一個(gè)通過工件的交變磁場(chǎng),該磁場(chǎng)使工件產(chǎn)生渦流來加熱。感應(yīng)加熱是伴隨著汽車工業(yè)和拖拉機(jī)工業(yè)的誕生而起步的。由于其具有加熱效率高、速度快、可控性好及易于實(shí)現(xiàn)機(jī)械化和自動(dòng)化等優(yōu)點(diǎn)。目前常用的zui有效的熱...

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